오일 제거 플라즈마 클리닝 장비 설명

1. 플라즈마 세정의 원리

플라즈마는 고체, 액체, 기체에 이은 물질의 제4의 상태로, 기체에 높은 에너지를 가하여 이온, 전자, 중성 입자, 라디칼 등이 혼재된 전리된 상태를 말합니다. 플라즈마 세정은 이러한 플라즈마의 반응성을 이용하여 시료 표면의 오염물을 제거하는 친환경적인 건식 세정 방식입니다.

원리:

장치구성 : 플라즈마전극 + 전원장치

- 공정 유틸리티; 에어 와 전기 방전원리로 공기만으로 오일세정하는 저온 플라즈마장치(온도 ;50 ~ 80 도 내외)

- 고주파 에너지 인가: 고전압/고주파(RF) 또는 마이크로파(MW) 에너지를 인가하여 오일를 플라즈마 상태 로 만듭니다.

- 오염물 제거: 생성된 플라즈마 내의 활성 입자(이온, 라디칼 등)들이 시료 표면과 충돌하거나 화학적으로 반응하여 유기 오염물을 분해, 휘발성 물질로 변화시켜 제거합니다.

2. 오일 제거 메커니즘

오일 제거 플라즈마 클리닝은 주로 산소(O2) 플라즈마를 활용하여 유기 오일 성분을 효과적으로

제거합니다.

( 작동 메커니즘 )

1. 산소 라디칼 생성: 산소 가스가 플라즈마 상태가 되면 O, O+, O- 등의 산소 라디칼(활성 산소종)이 대량으로 생성됩니다.

2. 유기물과의 반응: 이 활성 산소종들은 시료 표면에 부착된 유기 오일(탄화수소 계열)과 강력하게 반응하여 탄소-탄소(C-C), 탄소-수소(C-H) 결합을 끊습니다.

3. 휘발성 부산물 형성: 반응 결과, 유기 오일은 주로 이산화탄소(CO2), 수증기(H2O), 일산화탄소(CO) 등과 같은 휘발성 기체 형태로 분해되어 챔버 밖으로 배출됩니다.

4. 표면 활성화: 오일 제거와 동시에 플라즈마 처리된 표면은 친수성(Hydrophilic)으로 변화하여 후속 공정(예: 코팅, 접착, 증착)의 접착력 및 균일성을 향상시킵니다.

( 오일 제거 플라즈마 클리닝 장비의 구조, 제원, 기능 )

일반적인 오일 제거 플라즈마 클리닝 장비는 다음과 같은 주요 구성 요소로 이루어집니다.

• 전극/방전관: 시료가 위치하며 플라즈마가 생성되는 공간. 스테인리스 스틸 또는 알루미늄 재질로 제작되며,간단구조 입니다

• 펌프 시스템 (Vacuum Pump System): 로터리 펌프, 부스터 펌프 등으로 구성됩니다..

• RF/MW 전원 공급 장치 (RF/MW Power Supply): 공정 가스를 플라즈마 상태로 만들기 위한 고주파 또는 마이크로파 에너지를 공급하는 장치입니다.

• 제어 시스템 (Control System): 모든 공정 파라미터( 인가 전력, 처리 시간 등)를 설정하고 모니터링하며, 자동화된 공정 제어를 담당하는 PLC 또는 PC 기반 제어 시스템입니다.

• 안전 시스템 (Safety System): 비상 정지 버튼, 과전류/과전압 보호, 인터락 시스템 등 작업자 및 장비 보호를 위한 기능들을 포함합니다.